电阻蒸发镀膜机-EVAP400
产品概述:该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。
产品用途:热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。
产品用途:热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。
设备型号:EVAP400
设备参数:
真空室结构:方箱式,优质304不锈钢材质,前、后开门结构,前门置于手套箱内水平滑开式,后门为侧开门,便于设备清理维护。
腔体尺寸:500mm×500mm×600mm(L*W*H)
设备尺寸:1200mm×950mm×2000mm(L*W*H)
真空极限:优于(6*10-5)Pa
升压率:≤0.8Pa/h
设备保压:停泵12小时后,设备真空度≤10Pa。
抽速: 从大气抽至8.0×10-4Pa所需时间小于40min(设备空载);从大气抽至8.0×10-4Pa所需时间小于10min(干燥氮气环境,设备空载)。
膜厚不均匀性:≤5%(210×210mm);
基片台:尺寸:220mm×220mm,有加热(300℃)和水冷功能可以选配。
蒸发源:金属4 组 + 有机2 组或更多,有机配温控式加热电源,金属电源 (国产或进口),可共蒸或切换蒸发。
膜厚控制系统:采用原装进口英福康SQC-310膜厚仪,在线测量镀膜过程中膜厚变化,根据实时膜厚和镀膜速率自动调整蒸发源电源功率,保证镀膜过程接近匀速稳定;
控制方式:PLC+触摸屏控制。
报警及保护:对缺水进行报警并执行相应保护措施
设备特点:
★机械泵前加装过滤网,抽气口加装过滤网、百叶窗等防护件,气路设计避免扬尘
★西门子PLC+触摸屏手自动控制或电脑控制可选,完善的逻辑程序互锁保护及异常报警
★自动控制蒸发源输出